23.06.2010

Grundlagen der optischen Messtechnik: Konturbasiertes Pattern-Matching

Beim Pattern-Matching wird ein Bild nach einem vorgegebenen Muster abgesucht, dem „template" oder dem „Modell". Das Verfahren liefert grundsätzlich für jeden Bildpunkt ein Ähnlichkeitsmaß. Je höher dieser „score", desto höher ist die Wahrscheinlichkeit, dass sich das gesuchte Muster tatsächlich an dieser Stelle befindet. Es gibt Vergleichsmethoden, die sich auf die Kontur von Objekten beziehen. Sie setzen nicht an Grauwertmustern an, sondern verarbeiten die Kanten, die in einem Bild vorhanden sind. mehr13.04.2010

Neues Weißlicht-Interferometer von FRT

Für Topographie- und Ebenheitsmessungen bietet Fries Research & Technology (FRT) jetzt ein neues Weißlicht-Interferometer an, dass in die Multisensor-Oberflächenmessgeräte von FRT integriert werden kann. mehr